Nature.comን ስለጎበኙ እናመሰግናለን።እየተጠቀሙበት ያለው የአሳሽ ስሪት የተወሰነ የሲኤስኤስ ድጋፍ አለው።ለበለጠ ልምድ፣ የዘመነ አሳሽ እንድትጠቀም እንመክርሃለን (ወይም የተኳኋኝነት ሁነታን በኢንተርኔት ኤክስፕሎረር አሰናክል)።እስከዚያው ድረስ ቀጣይ ድጋፍን ለማረጋገጥ ጣቢያውን ያለ ቅጦች እና ጃቫስክሪፕት እናቀርባለን።
4H-SiC ለኃይል ሴሚኮንዳክተር መሳሪያዎች እንደ ማቴሪያል ለገበያ ቀርቧል።ይሁን እንጂ የ 4H-SiC መሳሪያዎች የረጅም ጊዜ አስተማማኝነት ለሰፊው አተገባበር እንቅፋት ነው, እና የ 4H-SiC መሳሪያዎች በጣም አስፈላጊው አስተማማኝነት ችግር ባይፖላር መበላሸት ነው.ይህ ብልሽት የሚከሰተው በአንድ የሾክሌይ ቁልል ጥፋት (1SSF) የባሳል አውሮፕላን በ4H-SiC ክሪስታሎች ውስጥ በመስፋፋቱ ነው።እዚህ በ 4H-SiC epitaxial wafers ላይ ፕሮቶኖችን በመትከል 1SSF መስፋፋትን ለመግታት ዘዴን እናቀርባለን።ከፕሮቶን ተከላ ጋር በ wafers ላይ የተሰሩ የፒኤን ዳዮዶች ልክ እንደ ዲዮዶች ያለ ፕሮቶን መትከል ተመሳሳይ የአሁኑን-ቮልቴጅ ባህሪያትን አሳይተዋል።በአንፃሩ የ1SSF መስፋፋት በፕሮቶን በተተከለው የፒኤን ዳዮድ ውስጥ ውጤታማ በሆነ መንገድ ተዘግቷል።ስለዚህ ፕሮቶኖችን ወደ 4H-SiC epitaxial wafers መትከል የመሳሪያውን አፈጻጸም በመጠበቅ የ4H-SiC ሃይል ሴሚኮንዳክተር መሳሪያዎችን ባይፖላር መበላሸትን ለመግታት ውጤታማ ዘዴ ነው።ይህ ውጤት በጣም አስተማማኝ የ 4H-SiC መሳሪያዎችን ለማዳበር አስተዋፅኦ ያደርጋል.
ሲሊኮን ካርቦዳይድ (ሲሲ) በከባድ አካባቢዎች ውስጥ ሊሰሩ ለሚችሉ ከፍተኛ ኃይል እና ከፍተኛ ድግግሞሽ ሴሚኮንዳክተር መሳሪያዎች እንደ ሴሚኮንዳክተር ቁሳቁስ በሰፊው ይታወቃል።ብዙ የሲሲ ፖሊታይፕ ዓይነቶች አሉ፣ ከእነዚህም መካከል 4H-SiC እጅግ በጣም ጥሩ ሴሚኮንዳክተር መሳሪያ አካላዊ ባህሪያት እንደ ከፍተኛ ኤሌክትሮን ተንቀሳቃሽነት እና ጠንካራ ብልሽት የኤሌክትሪክ መስክ2።6 ኢንች ዲያሜትር ያላቸው 4H-SiC wafers በአሁኑ ጊዜ ለገበያ ቀርበዋል እና ለኃይል ሴሚኮንዳክተር መሳሪያዎች በብዛት ለማምረት ያገለግላሉ3።ለኤሌክትሪክ ተሽከርካሪዎች እና ባቡሮች የመጎተቻ ስርዓቶች የተፈጠሩት 4H-SiC4.5 ሃይል ሴሚኮንዳክተር መሳሪያዎችን በመጠቀም ነው።ሆኖም፣ 4H-SiC መሣሪያዎች አሁንም እንደ ዳይኤሌክትሪክ ብልሽት ወይም የአጭር-ወረዳ አስተማማኝነት ባሉ የረጅም ጊዜ አስተማማኝነት ጉዳዮች ይሰቃያሉ፣ ከእነዚህም ውስጥ 6,7 በጣም አስፈላጊ ከሆኑ አስተማማኝነት ጉዳዮች አንዱ ባይፖላር ዲግሬሽን2፣8፣9፣10፣11 ነው።ይህ ባይፖላር ዲግሬሽን ከ20 ዓመታት በፊት የተገኘ ሲሆን በሲሲ መሳሪያ ማምረቻ ላይ ችግር ሆኖ ቆይቷል።
ባይፖላር መበላሸት የሚከሰተው በአንድ የሾክሌይ ቁልል ጉድለት (1SSF) በ 4H-SiC crystals with basal plane dislocations (BPDs) በዳግም ማቀናጀት የተሻሻለ የመፈናቀል ግላይድ (REDG) 12,13,14,15,16,17,18,19.ስለዚህ፣ BPD ማስፋፊያ ወደ 1ኤስኤስኤፍ ከተጨመቀ፣ 4H-SiC ሃይል መሳሪያዎች ያለ ባይፖላር ውድቀት ሊፈጠሩ ይችላሉ።እንደ BPD ወደ Thread Edge Dislocation (TED) ትራንስፎርሜሽን 20,21,22,23,24 የመሳሰሉ የBPD ስርጭትን ለመግታት ብዙ ዘዴዎች ተዘግበዋል.በመጨረሻው የ SiC epitaxial wafers ውስጥ, BPD በዋነኛነት በንጥረ-ነገር ውስጥ እንጂ በኤፒታክሲያል ሽፋን ውስጥ አይደለም, ምክንያቱም በኤፒታክሲያል እድገት የመጀመሪያ ደረጃ ላይ BPD ወደ TED በመለወጥ ምክንያት.ስለዚህ ቀሪው የባይፖላር መበላሸት ችግር የቢፒዲ ስርጭት በ 25,26,27 ውስጥ ነው.በተንሳፋፊው ንብርብር እና በተቀባዩ መካከል “የተቀናበረ ማጠናከሪያ ንብርብር” ማስገባት በንዑስ 28 ፣ 29 ፣ 30 ፣ 31 ውስጥ የ BPD ማስፋፊያን ለመግታት ውጤታማ ዘዴ ሆኖ ቀርቧል ። epitaxial ንብርብር እና SiC substrate.የኤሌክትሮን-ቀዳዳ ጥንዶችን ቁጥር መቀነስ የ REDG ወደ BPD የመንዳት ኃይልን በንዑስ ፕላስተር ውስጥ ይቀንሳል, ስለዚህ የተዋሃደ ማጠናከሪያ ንብርብር ባይፖላር ውድመትን ሊቀንስ ይችላል.የንብርብር ማስገባት በዋፍሮች ምርት ላይ ተጨማሪ ወጪዎችን እንደሚያስፈልግ ልብ ሊባል የሚገባው ሲሆን ንብርብር ሳያካትት የአጓጓዡን የህይወት ዘመን ቁጥጥር ብቻ በመቆጣጠር የኤሌክትሮን-ቀዳዳ ጥንዶችን ቁጥር ለመቀነስ አስቸጋሪ ነው.ስለዚህ በመሳሪያ ማምረቻ ዋጋ እና ምርት መካከል የተሻለ ሚዛን ለማግኘት ሌሎች የማፈን ዘዴዎችን ማዘጋጀት አሁንም ከፍተኛ ፍላጎት አለ።
BPD ወደ 1ኤስኤስኤፍ ማራዘም ከፊል መፈናቀልን (PDs) ስለሚያስፈልገው ፒዲውን መሰካት ባይፖላር መበስበስን ለመግታት ተስፋ ሰጭ አካሄድ ነው።ምንም እንኳን ፒዲ በብረት ቆሻሻዎች መሰካት ሪፖርት የተደረገ ቢሆንም፣ በ 4H-Sic substrates ውስጥ ያሉት FPDs ከኤፒታክሲያል ንብርብር ወለል ከ 5 ማይክሮን በላይ ርቀት ላይ ይገኛሉ።በተጨማሪም በሲሲ ውስጥ ያለው የማንኛውም ብረት ስርጭት በጣም ትንሽ ስለሆነ ለብረት ብክሎች ወደ substrate34 ለመበተን አስቸጋሪ ነው።በአንፃራዊነት ትልቅ በሆነው የአቶሚክ ብዛት ምክንያት ብረቶች ion መትከልም አስቸጋሪ ነው።በአንፃሩ በሃይድሮጅን ውስጥ በጣም ቀላል የሆነው ኤለመንት፣ ion (ፕሮቶን) ወደ 4H-SiC በሜቪ-ክፍል አፋጣኝ በመጠቀም ከ10 μm በላይ ጥልቀት ውስጥ መትከል ይቻላል።ስለዚህ, የፕሮቶን መትከል በፒዲ ፒኒንግ ላይ ተጽእኖ ካሳደረ, ከዚያም በንጥረቱ ውስጥ የ BPD ስርጭትን ለማፈን ሊያገለግል ይችላል.ይሁን እንጂ የፕሮቶን መትከል 4H-SiCን ሊጎዳ እና የመሣሪያውን አፈጻጸም መቀነስ ሊያስከትል ይችላል37,38,39,40.
በፕሮቶን ተከላ ምክንያት የሚደርሰውን መበላሸት ለማሸነፍ ከፍተኛ የሙቀት መጠን ያለው ማደንዘዣ ጉዳቱን ለመጠገን ያገለግላል። በከፍተኛ ሙቀት መጨመር ምክንያት የሃይድሮጂን ስርጭት ሪፖርት ተደርጓል ፣ በ FD አቅራቢያ ያለው የሃይድሮጂን አተሞች ጥግግት ብቻ ሲኤምኤስን በመጠቀም የፒአር ፒን መሰካት በቂ ላይሆን ይችላል።ስለዚህ በዚህ ጥናት ውስጥ ከፍተኛ የሙቀት መጠን መጨመርን ጨምሮ ከመሳሪያው ሂደት በፊት ፕሮቶኖችን ወደ 4H-SiC epitaxial wafers ተክለናል።የፒኤን ዳዮዶችን እንደ የሙከራ መሳሪያ አወቃቀሮች ተጠቅመን በፕሮቶን በተተከለው 4H-SiC epitaxial wafers ላይ ፈጠርናቸው።ከዚያም በፕሮቶን መርፌ ምክንያት የመሳሪያውን አፈፃፀም ማሽቆልቆል ለማጥናት የቮልት-አምፔር ባህሪያትን ተመልክተናል.በመቀጠልም የ 1SSF መስፋፋትን በኤሌክትሮላይንሰንስ (ኤልኤል) ምስሎች ላይ የኤሌክትሪክ ቮልቴጅን ወደ ፒን ዲዲዮ ከተጠቀምን በኋላ ተመልክተናል.በመጨረሻም የ 1SSF መስፋፋትን በመጨፍለቅ ላይ የፕሮቶን መርፌን ተጽእኖ አረጋግጠናል.
በለስ ላይ.ምስል 1 የፒኤን ዳዮዶችን የወቅቱን የቮልቴጅ ባህሪያትን (CVCs) በክፍል ሙቀት ያሳያል ከፐልዝድ ጅረት በፊት የፕሮቶን መትከል በሌለባቸው ክልሎች።የፒኤን ዳዮዶች ፕሮቶን መርፌ ከሌላቸው ዳዮዶች ጋር ተመሳሳይ የሆነ የማስተካከያ ባህሪያትን ያሳያሉ፣ ምንም እንኳን የ IV ባህሪያት በዲዮዶች መካከል ቢጋሩም።በመርፌ ሁኔታዎች መካከል ያለውን ልዩነት ለማመልከት የቮልቴጅ ድግግሞሹን ወደፊት በ 2.5 A / cm2 (ከ 100 mA ጋር የሚዛመድ) እንደ ስታቲስቲካዊ እቅድ በስእል 2 ላይ አድርገናል ። በመደበኛ ስርጭት የተገመተው ኩርባ እንዲሁ ይወከላል ። ባለ ነጥብ መስመር.መስመር.ከርቭ ጫፍ ላይ እንደሚታየው በ 1014 እና በ 1016 ሴ.ሜ -2 የፕሮቶን መጠን ላይ ያለው ተቃውሞ በትንሹ ይጨምራል ፣ የፒኤን ዲዲዮ 1012 ሴ.ሜ - 2 የሆነ ፕሮቶን መጠን ያለ ፕሮቶን መትከል ተመሳሳይ ባህሪን ያሳያል ። .ከዚህ በፊት በተደረጉ ጥናቶች 37,38,39 በስእል S1 ላይ እንደሚታየው በፕሮቶን ተከላ ምክንያት በደረሰ ጉዳት ምክንያት ወጥ የሆነ ኤሌክትሮላይሚንሴንስ ያላሳዩ የፒኤን ዳዮዶች ከተሰራ በኋላ የፕሮቶን ተከላ ሰርተናል።ስለዚህ አል ions ከተተከሉ በኋላ በ 1600 ዲግሪ ሴንቲ ግሬድ ውስጥ መቆንጠጥ አል አዮዲንን ለማንቃት የሚረዱ መሳሪያዎችን ለማምረት አስፈላጊ ሂደት ነው, ይህም በፕሮቶን ተከላ ምክንያት የሚደርሰውን ጉዳት ማስተካከል ይችላል, ይህም CVC ዎች በተተከሉ እና ባልተተከሉ ፕሮቶን ፒኤን ዳዮዶች መካከል ተመሳሳይ ያደርገዋል. .በ -5 V ላይ ያለው የተገላቢጦሽ ድግግሞሽ እንዲሁ በስእል S2 ቀርቧል ፣ በዲዲዮዎች እና ያለ ፕሮቶን መርፌ መካከል ምንም ልዩ ልዩነት የለም ።
የፒኤን ዳዮዶች የቮልት-አምፔር ባህሪያት በክፍል ሙቀት ውስጥ የተከተቡ ፕሮቶኖች እና ያለሱ።አፈ ታሪኩ የፕሮቶን መጠንን ያመለክታል.
የቮልቴጅ ድግግሞሽ በቀጥታ 2.5 ኤ/ሴሜ 2 ለፒኤን ዳዮዶች በመርፌ እና ባልተከተቡ ፕሮቶኖች።ነጠብጣብ መስመር ከተለመደው ስርጭት ጋር ይዛመዳል.
በለስ ላይ.3 ከቮልቴጅ በኋላ የ 25 A/cm2 ጥግግት ያለው የፒኤን ዳዮድ የ EL ምስል ያሳያል።በስእል 3. C2 ላይ እንደሚታየው የ pulsed የአሁኑን ጭነት ከመተግበሩ በፊት, የዲዲዮው ጨለማ ክልሎች አልተስተዋሉም.ይሁን እንጂ በለስ ላይ እንደሚታየው.3a, በፒኤን ዲዲዮ ውስጥ ያለ ፕሮቶን መትከል, የኤሌክትሪክ ቮልቴጅን ከተተገበሩ በኋላ የብርሃን ጠርዝ ያላቸው በርካታ ጥቁር ነጠብጣብ ክልሎች ተስተውለዋል.እንደነዚህ ያሉት የዱላ ቅርጽ ያላቸው ጥቁር ክልሎች በ EL ምስሎች ለ 1SSF ከ BPD በ substrate28,29 ውስጥ ይስተዋላሉ.በምትኩ፣ በምስል 3ለ-መ ላይ እንደሚታየው አንዳንድ የተራዘሙ የመደራረብ ጥፋቶች በፒኤን ዳዮዶች ውስጥ በተተከሉ ፕሮቶኖች ተስተውለዋል።የኤክስሬይ መልክዓ ምድራዊ አቀማመጥን በመጠቀም የፕሮቶን መርፌ ሳይኖር በፒኤን diode ውስጥ ባሉ ግንኙነቶች ዳርቻ ላይ ከ BPD ወደ substrate ሊንቀሳቀሱ የሚችሉ የ PRs መኖራቸውን አረጋግጠናል (ምስል 4: ይህ ምስል የላይኛውን ኤሌክትሮድስ ሳያስወግድ (ፎቶግራፍ, ፒ.አር.) በኤሌክትሮዶች ስር አይታይም) ስለዚህ ፣ በኤል ምስል ውስጥ ያለው ጨለማ ቦታ በ EL ምስል ውስጥ ካለው የተራዘመ 1SSF BPD ጋር ይዛመዳል ። EL የሌሎች የተጫኑ የፒን ዳዮዶች ምስሎች በስእል 1 እና 2 ውስጥ ይታያሉ ። ቪዲዮዎች S3-S6 እና ያልተራዘመ ጨለማ ቦታዎች (የፒኤን ዳዮዶች ያለ ፕሮቶን መርፌ እና በ 1014 ሴ.ሜ-2 ላይ የተተከሉ የ EL ምስሎች በጊዜ የሚለዋወጡ) በተጨማሪ መረጃ ውስጥ ይታያሉ።
የ EL ምስሎች የፒኤን ዳዮዶች በ 25 A/cm2 ከ 2 ሰዓታት የኤሌክትሪክ ጭንቀት በኋላ (ሀ) ያለ ፕሮቶን መትከል እና በተተከሉ መጠኖች (ለ) 1012 ሴ.ሜ-2, (ሐ) 1014 ሴ.ሜ-2 እና (መ) 1016 ሴ.ሜ-2 ፕሮቶኖች .
በስእል 5 ላይ እንደሚታየው ለእያንዳንዱ ሁኔታ በሦስት ፒኤን ዳዮዶች ውስጥ ደማቅ ጠርዝ ያላቸው ጨለማ ቦታዎችን በማስላት የተስፋፋውን 1SSF ጥግግት አስልተናል። የተስፋፋው 1SSF ጥግግት ካልተተከለው የፒኤን ዳዮድ በእጅጉ ያነሰ ነው።
በ pulsed current (እያንዳንዱ ግዛት ሶስት የተጫኑ ዳዮዶችን ያካትታል) ከፕሮቶን መትከል በኋላ የኤስኤፍ ፒኤን ዳዮዶች እፍጋቶች መጨመር።
የአገልግሎት አቅራቢውን የህይወት ጊዜ ማሳጠርም የማስፋፊያ መጨናነቅን ይነካል፣ እና የፕሮቶን መርፌ የአገልግሎት አቅራቢውን የህይወት ዘመን ይቀንሳል32,36።60 µm ውፍረት ባለው ኤፒታክሲያል ንብርብር ውስጥ የአገልግሎት ዘመናቸውን ተመልክተናል ከ1014 ሴ.ሜ-2 የሆነ ፕሮቶን።ከመጀመሪያው የአገልግሎት አቅራቢው የህይወት ዘመን ምንም እንኳን የተተከለው እሴቱን ወደ ~ 10% ቢቀንስም ፣ ከዚያ በኋላ ያለው ማደንዘዣ ወደ ~ 50% ይመልሳል ፣ በስእል S7 ላይ እንደሚታየው።ስለዚህ፣ ተሸካሚው የህይወት ዘመን፣ በፕሮቶን መትከል ምክንያት የተቀነሰው፣ በከፍተኛ የሙቀት መጠን በማደንዘዝ ይመለሳል።ምንም እንኳን 50% የአገልግሎት አቅራቢ ህይወት መቀነስ የመደራረብ ጥፋቶችን ስርጭትን የሚገታ ቢሆንም፣ የI-V ባህሪያት፣ በተለምዶ በአገልግሎት አቅራቢው ህይወት ላይ ጥገኛ የሆኑት፣ በመርፌ እና ባልተተከሉ ዳዮዶች መካከል መጠነኛ ልዩነቶችን ያሳያሉ።ስለዚህ፣ የፒዲ መልህቅ የ1SSF መስፋፋትን በመከላከል ረገድ ሚና ይጫወታል ብለን እናምናለን።
ምንም እንኳን ሲኤምኤስ በ 1600 ዲግሪ ሴንቲ ግሬድ ውስጥ ከተለቀቀ በኋላ ሃይድሮጂንን ባያገኝም, ቀደም ባሉት ጥናቶች እንደተዘገበው, በስእል 1 እና 4. 3, 4 ላይ እንደሚታየው የፕሮቶን መትከል በ 1SSF መስፋፋት ላይ ያለውን ተጽእኖ ተመልክተናል. ስለዚህ እኛ እናምናለን. ፒዲኤው በሃይድሮጂን አተሞች ከሲም ኤስ (2 × 1016 ሴ.ሜ-3) የመለየት ገደብ በታች ወይም በመትከል የተከሰቱ የነጥብ ጉድለቶች በሃይድሮጂን አተሞች ተጣብቋል።የ 1SSF ማራዘሚያ ከተነሳ የአሁኑ ጭነት በኋላ በስቴት ላይ ተቃውሞ መጨመሩን እንዳላረጋገጥን ልብ ሊባል ይገባል.ይህ ምናልባት የእኛን ሂደት በመጠቀም በተደረጉ ፍጽምና የጎደላቸው የኦሚክ ግንኙነቶች ምክንያት ሊሆን ይችላል፣ ይህም በቅርብ ጊዜ ውስጥ ይወገዳል።
በማጠቃለያው፣ መሳሪያ ከመፈጠሩ በፊት ፕሮቶን መትከልን በመጠቀም BPD ወደ 1SSF በ 4H-SiC PiN diodes ውስጥ ለማራዘም የማጥፊያ ዘዴ ፈጠርን።ፕሮቶን በሚተከልበት ጊዜ የ I-V ባህሪ መበላሸቱ እዚህ ግባ የማይባል ነው፣ በተለይም በ 1012 ሴ.ሜ -2 የፕሮቶን መጠን ፣ ነገር ግን የ 1 ኤስኤስኤፍ መስፋፋትን የመግታት ውጤት ከፍተኛ ነው።ምንም እንኳን በዚህ ጥናት 10 µm ውፍረት ያለው የፒኤን ዳዮዶችን ከፕሮቶን መትከያ ጋር ወደ 10 μm ጥልቀት ብንሠራም፣ አሁንም የመትከያ ሁኔታዎችን የበለጠ ማመቻቸት እና ሌሎች የ4H-SiC መሣሪያዎችን ለመሥራት ተግባራዊ ማድረግ ይቻላል።በፕሮቶን መትከያ ጊዜ ለመሳሪያው ማምረቻ ተጨማሪ ወጪዎች ግምት ውስጥ መግባት አለባቸው, ነገር ግን ለ 4H-SiC የኃይል መሳሪያዎች ዋናው የማምረት ሂደት ከሆነው ከአሉሚኒየም ion መትከል ጋር ተመሳሳይ ይሆናሉ.ስለዚህ ከመሳሪያው ሂደት በፊት የፕሮቶን መትከል 4H-SiC ባይፖላር ሃይል መሳሪያዎችን ያለመበላሸት ለማምረት የሚያስችል ዘዴ ነው።
ባለ 4 ኢንች n-አይነት 4H-SiC ዋፈር የኤፒታክሲያል ንብርብር ውፍረት 10 µm እና ለጋሽ ዶፒንግ ትኩረት 1 × 1016 ሴሜ–3 ለናሙናነት ጥቅም ላይ ውሏል።መሳሪያውን ከማቀነባበሩ በፊት ኤች+ ionዎች በ 0.95 ሜቮ የማፍጠን ሃይል በክፍል ሙቀት ወደ 10 ማይክሮን ጥልቀት ወደ ሳህኑ ወለል በመደበኛ አንግል ውስጥ ተተክለዋል።ፕሮቶን በሚተከልበት ጊዜ በፕላስቲን ላይ ጭምብል ጥቅም ላይ ይውላል, እና ሳህኑ ያለ እና 1012, 1014, ወይም 1016 ሴ.ሜ-2 የሆነ የፕሮቶን መጠን ያላቸው ክፍሎች አሉት.ከዚያም አል ions የፕሮቶን መጠን 1020 እና 1017 ሴ.ሜ-3 በጠቅላላው ቫፈር ላይ ከ0-0.2 μm እና 0.2-0.5 µm ጥልቀት ላይ ተተክለው በ 1600 ዲግሪ ሴንቲ ግሬድ በማደንዘዝ የካርበን ክዳን እንዲፈጠር ተደርገዋል። ቅጽ አፕ ንብርብር.- ዓይነት.በመቀጠልም የኋለኛው ጎን የኒ ንክኪ በንዑስ ክፍል ላይ ተቀምጧል ፣ 2.0 ሚሜ × 2.0 ሚሜ ማበጠሪያ ቅርፅ ያለው የቲ/አል የፊት የጎን ግንኙነት በፎቶሊቶግራፊ እና የልጣጭ ሂደት በ epitaxial ንብርብር በኩል ተከማችቷል።በመጨረሻም የእውቂያ ንክኪ በ 700 ° ሴ የሙቀት መጠን ይካሄዳል.ቫፈርን ወደ ቺፕስ ከቆረጥን በኋላ, የጭንቀት ባህሪን እና አተገባበርን አከናውነናል.
የ HP4155B ሴሚኮንዳክተር መለኪያ ተንታኝ በመጠቀም የተሰሩት የፒኤን ዳዮዶች የI-V ባህሪያት ተስተውለዋል።እንደ ኤሌክትሪክ ጭንቀት, የ 10 ሚሊሰከንድ የ 212.5 A / cm2 የ 2 ሰአታት ድግግሞሽ በ 10 ጥራዞች / ሴኮንድ ታይቷል.ዝቅተኛ የአሁኑ ጥግግት ወይም ድግግሞሽ በምንመርጥበት ጊዜ፣ ያለ ፕሮቶን መርፌ በፒኤን ዳዮድ ውስጥ እንኳን የ1SSF መስፋፋትን አላየንም።በተተገበረው ኤሌክትሪክ ቮልቴጅ ውስጥ, በስእል S8 ላይ እንደሚታየው የፒኤን ዲዲዮ የሙቀት መጠን ሆን ተብሎ ማሞቂያ ሳይደረግበት ወደ 70 ° ሴ አካባቢ ነው.የኤሌክትሮልሚኒሰንት ምስሎች ከኤሌክትሪክ ጭንቀት በፊት እና በኋላ የተገኙት በ 25 A / cm2 ጥግግት ላይ ነው.የማመሳሰል ነጸብራቅ የግጦሽ ክስተት የኤክስሬይ መልክዓ ምድራዊ አቀማመጥ ሞኖክሮማቲክ የኤክስሬይ ጨረር በመጠቀም (λ = 0.15 nm) በ Aichi Synchrotron Radiation Center፣ በBL8S2 ያለው አግ ቬክተር -1-128 ወይም 11-28 ነው (ለዝርዝሩ ማጣቀሻ 44 ይመልከቱ) .).
በ 2.5 A/cm2 ወደፊት ያለው የቮልቴጅ ድግግሞሽ በ 0.5 ቪ ክፍተት በ fig.2 በእያንዳንዱ የፒኤን ዲዲዮ ግዛት CVC መሰረት.ከጭንቀት ቫቭ አማካይ ዋጋ እና የጭንቀቱ መደበኛ መዛባት σ ፣ የሚከተለውን እኩልታ በመጠቀም በስእል 2 ውስጥ መደበኛ የማከፋፈያ ጥምዝ በነጥብ መስመር መልክ እናስቀምጣለን።
ቨርነር፣ ኤምአር እና ፋህርነር፣ ደብሊውአር በቁሳቁስ፣ በማይክሮ ሴንሰሮች፣ ስርዓቶች እና መሳሪያዎች ላይ ለከፍተኛ ሙቀት እና ለጨካኝ አካባቢ መተግበሪያዎች ግምገማ። ቨርነር፣ ኤምአር እና ፋህርነር፣ ደብሊውአር በቁሳቁስ፣ በማይክሮ ሴንሰሮች፣ ስርዓቶች እና መሳሪያዎች ላይ ለከፍተኛ ሙቀት እና ለጨካኝ አካባቢ መተግበሪያዎች ግምገማ።ቨርነር፣ ኤምአር እና ፋርነር፣ WR የቁሳቁሶች፣ የማይክሮ ሴንሰሮች፣ ስርዓቶች እና መሳሪያዎች አጠቃላይ እይታ በከፍተኛ ሙቀት እና አስቸጋሪ አካባቢዎች። ቨርነር፣ ኤምአር እና ፋህርነር፣ ደብሊውአር ቨርነር፣ ኤምአር እና ፋህርነር፣ WR የቁሳቁሶች፣ ማይክሮ ሴንሰሮች፣ ስርዓቶች እና መሳሪያዎች ለከፍተኛ ሙቀት እና ጎጂ የአካባቢ መተግበሪያዎች ግምገማ።ቨርነር፣ ኤምአር እና ፋርነር፣ WR የቁሳቁሶች፣ የማይክሮ ሴንሰሮች፣ ስርዓቶች እና መሳሪያዎች አጠቃላይ እይታ በከፍተኛ ሙቀት እና አስቸጋሪ ሁኔታዎች።IEEE ትራንስ.የኢንዱስትሪ ኤሌክትሮኒክስ.48, 249-257 (2001).
ኪሞቶ፣ ቲ. እና ኩፐር፣ JA የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ መሰረታዊ ነገሮች የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ፡ እድገት፣ ባህሪ፣ መሳሪያዎች እና አፕሊኬሽኖች ጥራዝ. ኪሞቶ፣ ቲ. እና ኩፐር፣ JA የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ መሰረታዊ ነገሮች የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ፡ እድገት፣ ባህሪ፣ መሳሪያዎች እና አፕሊኬሽኖች ጥራዝ.ኪሞቶ፣ ቲ. እና ኩፐር፣ JA የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ መሰረታዊ ነገሮች የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ፡ እድገት፣ ባህሪያት፣ መሳሪያዎች እና አፕሊኬሽኖች ጥራዝ. ኪሞቶ፣ ቲ. እና ኩፐር፣ JA 碳化硅技术基础碳化硅技术基础：增长、表征、设备和应用卷。 ኪሞቶ፣ ቲ. እና ኩፐር፣ ጃኤ ካርቦን የሲሊኮን ቴክኖሎጂ መሰረትኪሞቶ፣ ቲ. እና ኩፐር፣ ጄ. የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ መሰረታዊ ነገሮች የሲሊኮን ካርቦይድ ቴክኖሎጂ፡ እድገት፣ ባህሪያት፣ መሳሪያዎች እና አፕሊኬሽኖች ጥራዝ.252 (Wiley Singapore Pte Ltd, 2014).
ቬሊያዲስ፣ V. የሲሲ ትልቅ ልኬት ንግድ፡ ሁኔታ እና መሸነፍ ያለባቸው መሰናክሎች።አልማ ማዘር.ሳይንስ.ፎረም 1062፣ 125–130 (2022)።
Broughton, J., Smet, V., Tummala, RR & Joshi, YK ለትራፊክ ዓላማዎች ለአውቶሞቲቭ ኃይል ኤሌክትሮኒክስ የሙቀት ማሸጊያ ቴክኖሎጂዎች ግምገማ. Broughton, J., Smet, V., Tummala, RR & Joshi, YK ለትራፊክ ዓላማዎች ለአውቶሞቲቭ ኃይል ኤሌክትሮኒክስ የሙቀት ማሸጊያ ቴክኖሎጂዎች ግምገማ.Broughton, J., Smet, V., Tummala, RR እና Joshi, YK ለትራፊክ ዓላማዎች ለአውቶሞቲቭ ኃይል ኤሌክትሮኒክስ የሙቀት ማሸጊያ ቴክኖሎጂዎች አጠቃላይ እይታ. Broughton፣ J.፣ Smet፣ V.፣ Tummala፣ RR & Joshi፣ YK Broughton, J., Smet, V., Tummala, RR & Joshi, YKBroughton, J., Smet, V., Tummala, RR እና Joshi, YK ለትራፊክ ዓላማዎች ለአውቶሞቲቭ ኃይል ኤሌክትሮኒክስ የሙቀት ማሸጊያ ቴክኖሎጂ አጠቃላይ እይታ.ጄ ኤሌክትሮን.ጥቅል።ትራንስASME 140፣ 1-11 (2018)
ሳቶ፣ ኬ፣ ካቶ፣ ኤች እና ፉኩሺማ፣ ቲ. የሲሲ ልማት ተተግብሯል የመጎተቻ ስርዓት ለቀጣዩ ትውልድ ሺንካንሰን ባለከፍተኛ ፍጥነት ባቡሮች። ሳቶ፣ ኬ፣ ካቶ፣ ኤች እና ፉኩሺማ፣ ቲ. የሲሲ ልማት ተተግብሯል የመጎተቻ ስርዓት ለቀጣዩ ትውልድ ሺንካንሰን ባለከፍተኛ ፍጥነት ባቡሮች።Sato K., Kato H. እና Fukushima T. ለቀጣዩ ትውልድ ከፍተኛ ፍጥነት ያለው የሺንካንሰን ባቡሮች የተተገበረ የሲሲ ትራክሽን ስርዓት ልማት።Sato K., Kato H. እና Fukushima T. Traction System Development ለሲሲ አፕሊኬሽኖች ለቀጣይ ትውልድ ከፍተኛ ፍጥነት ያለው ሺንካንሰን ባቡሮች።አባሪ IEEJ J. Ind. 9, 453–459 (2020)።
Senzaki, J., Hayashi, S., Yonezawa, Y. & Okumura, H. በጣም አስተማማኝ የሲሲ ሃይል መሳሪያዎችን እውን ለማድረግ ተግዳሮቶች፡ ከአሁኑ ሁኔታ እና የሲሲ ዋፈርስ ጉዳዮች። Senzaki, J., Hayashi, S., Yonezawa, Y. & Okumura, H. በጣም አስተማማኝ የሲሲ ሃይል መሳሪያዎችን እውን ለማድረግ ተግዳሮቶች፡ ከአሁኑ ሁኔታ እና የሲሲ ዋፈርስ ጉዳዮች።Senzaki, J., Hayashi, S., Yonezawa, Y. እና Okumura, H. በጣም አስተማማኝ የሲሲ ኃይል መሳሪያዎችን በመተግበር ላይ ያሉ ችግሮች: አሁን ካለው ሁኔታ እና ከዋፈር ሲሲ ችግር ጀምሮ. Senzaki, J., Hayashi, S., ዮኔዛዋ, Y. & Okumura, H. Senzaki, J., Hayashi, S., Yonezawa, Y. & Okumura, H. በሲሲ ሃይል መሳሪያዎች ውስጥ ከፍተኛ አስተማማኝነት የማግኘት ፈተና፡ ከሲሲ 晶圆的电视和问题设计。Senzaki J, Hayashi S, Yonezawa Y. እና Okumura H. በሲሊኮን ካርቦይድ ላይ የተመሰረቱ ከፍተኛ አስተማማኝነት ያላቸው የኃይል መሣሪያዎችን የመፍጠር ተግዳሮቶች-ከሲሊኮን ካርቦዳይድ ቫፈርስ ጋር የተዛመዱ ሁኔታዎችን እና ችግሮችን መገምገም.በ 2018 የ IEEE ዓለም አቀፍ የአስተማማኝ ፊዚክስ ሲምፖዚየም (IRPS)።(ሴንዛኪ, ጄ. እና ሌሎች eds.) 3B.3-1-3B.3-6 (IEEE, 2018).
ኪም፣ ዲ. እና ሱንግ፣ ደብሊው የተሻሻለ የአጭር-ወረዳ ድፍረትን ለ 1.2 ኪሎ ቮልት 4H-Sic MOSFET ጥልቅ ፒ-ጉድጓድ በቻናል መትከል የተተገበረ። ኪም፣ ዲ. እና ሱንግ፣ ደብሊው የተሻሻለ የአጭር-ወረዳ ድፍረትን ለ 1.2 ኪሎ ቮልት 4H-Sic MOSFET ጥልቅ ፒ-ጉድጓድ በቻናል መትከል የተተገበረ።Kim, D. እና Sung, V. ለ 1.2 ኪሎ ቮልት 4H-Sic MOSFET የአጭር ጊዜ መከላከያን የተሻሻለ ጥልቅ ፒ-ጉድጓድ በቻናል ተከላ በመጠቀም። ኪም፣ ዲ. እና ሱንግ፣ ደብሊው ኪም፣ ዲ. እና ሱንግ፣ W.P 阱提高了1.2kV 4H-Sic MOSFETኪም, ዲ. እና ሱንግ, V. የተሻሻለ የ 1.2 kV 4H-Sic MOSFETs የአጭር ጊዜ መቻቻል ጥልቅ ፒ-ዌልስ በሰርጥ ተከላ።IEEE የኤሌክትሮኒክስ መሳሪያዎች ሌት.42፣ 1822–1825 (2021)።
Skowronski M. et al.በድጋሚ የተሻሻለ የብልሽት እንቅስቃሴ ወደ ፊት-አድሎአዊ 4H-SiC pn ዳዮዶች።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.92, 4699-4704 (2002).
ሃ፣ ኤስ.፣ ሚኤዝኮውስኪ፣ ፒ.፣ ስኮውሮንስኪ፣ ኤም. እና ሮውላንድ፣ LB የመፈናቀል ለውጥ በ 4H ሲሊኮን ካርቦይድ ኤፒታክሲ። ሃ፣ ኤስ.፣ ሚኤዝኮውስኪ፣ ፒ.፣ ስኮውሮንስኪ፣ ኤም. እና ሮውላንድ፣ LB የመፈናቀል ለውጥ በ 4H ሲሊኮን ካርቦይድ ኤፒታክሲ።Ha S., Meszkowski P., Skowronski M. እና Rowland LB በ 4H ሲሊከን ካርቦዳይድ ኤፒታክሲ ጊዜ የመበታተን ለውጥ. ሃ፣ ኤስ.፣ ሚኤዝኮውስኪ፣ ፒ.፣ ስኮውሮንስኪ፣ ኤም. እና ሮውላንድ፣ LB 4H ሃ፣ ኤስ.፣ ሚኤዝኮውስኪ፣ ፒ.፣ ስኮውሮንስኪ፣ ኤም. እና ሮውላንድ፣ LB 4H ሃ፣ ኤስ.፣ ሜዝኮውስኪ፣ ፒ.፣ ስኮውሮንስኪ፣ ኤም. እና ሮውላንድ፣ LBየመፈናቀል ሽግግር 4H በሲሊኮን ካርቦይድ ኤፒታክሲ.ጄ ክሪስታል.ዕድገት 244, 257-266 (2002).
Skowronski, M. & Ha, S. ባለ ስድስት ጎን በሲሊኮን-ካርቦይድ ላይ የተመሰረቱ ባይፖላር መሳሪያዎች መበስበስ. Skowronski, M. & Ha, S. ባለ ስድስት ጎን በሲሊኮን-ካርቦይድ ላይ የተመሰረቱ ባይፖላር መሳሪያዎች መበስበስ.Skowronski M. እና Ha S. በሲሊኮን ካርቦይድ ላይ የተመሰረተ ባለ ስድስት ጎን ባይፖላር መሳሪያዎች መበላሸት. Skowronski, M. & Ha, S. 六方碳化硅基双极器件的降解。 ስኮውሮንስኪ ኤም. እና ሃ ኤስ.Skowronski M. እና Ha S. በሲሊኮን ካርቦይድ ላይ የተመሰረተ ባለ ስድስት ጎን ባይፖላር መሳሪያዎች መበላሸት.ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ 99, 011101 (2006).
አጋርዋል፣ ኤ.፣ ፋጢማ፣ ኤች.፣ ሃኒ፣ ኤስ. እና ሪዩ፣ ኤስ.-ኤች. አጋርዋል፣ ኤ.፣ ፋጢማ፣ ኤች.፣ ሃኒ፣ ኤስ. እና ሪዩ፣ ኤስ.-ኤች.አጋርዋል አ.፣ ፋጢማ ኤች.፣ ሃይኒ ኤስ እና ራዩ ኤስ.ኤች. አጋርዋል፣ ኤ.፣ ፋጢማ፣ ኤች.፣ ሃኒ፣ ኤስ. እና ሪዩ፣ ኤስ.-ኤች. አጋርዋል፣ ኤ.፣ ፋጢማ፣ ኤች.፣ ሃኒ፣ ኤስ. እና ሪዩ፣ ኤስ.-ኤች.አጋርዋል አ.፣ ፋጢማ ኤች.፣ ሃይኒ ኤስ እና ራዩ ኤስ.ኤች.ለከፍተኛ-ቮልቴጅ ሲሲ ሃይል MOSFETs አዲስ የመበላሸት ዘዴ።IEEE የኤሌክትሮኒክስ መሳሪያዎች ሌት.28፣ 587–589 (2007)።
Caldwell፣ JD፣ Stahlbush፣ RE፣ Ancona፣ MG፣ Glembocki፣ OJ & Hobart፣ KD በ4H–SiC ውስጥ በዳግም ማቀናጀት ለተፈጠረው የመደራረብ ጥፋት እንቅስቃሴ አንቀሳቃሽ ኃይል ላይ። Caldwell፣ JD፣ Stahlbush፣ RE፣ Ancona፣ MG፣ Glembocki፣ OJ & Hobart፣ KD በ4H-SiC ውስጥ በዳግም ማቀናጀት ለተፈጠረው የመደራረብ ጥፋት እንቅስቃሴ አንቀሳቃሽ ኃይል ላይ።ካልድዌል፣ ጄዲ፣ ስታልቡሽ፣ RE፣ Ancona፣ MG፣ Glemboki፣ OJ፣ እና Hobart፣ KD በ4H-SiC ውስጥ በዳግም ማጣመር የተፈጠረ የተደራራቢ ስህተት እንቅስቃሴ አንቀሳቃሽ ኃይል ላይ። ካልድዌል፣ ጄዲ፣ ስታህልቡሽ፣ RE፣ Ancona፣ MG፣ Glembocki፣ OJ & Hobart፣ KD 关于4H-SiC 中复合引起的层错运动的驱动力。 ካልድዌል፣ ጄዲ፣ ስታህልቡሽ፣ RE፣ Ancona፣ MG፣ Glembocki፣ OJ & Hobart፣ KDካልድዌል፣ ጄዲ፣ ስታልቡሽ፣ RE፣ Ancona፣ MG፣ Glemboki፣ OJ፣ እና Hobart፣ KD፣ በ4H-SiC ውስጥ በዳግም ማጣመር የተፈጠረ የተደራራቢ ስህተት እንቅስቃሴ አንቀሳቃሽ ኃይል ላይ።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.108, 044503 (2010).
ኢጂማ፣ ኤ እና ኪሞቶ፣ ቲ. የኤሌክትሮኒካዊ ኢነርጂ ሞዴል ለነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተት ምስረታ በ4H-Sic crystals። ኢጂማ፣ ኤ እና ኪሞቶ፣ ቲ. የኤሌክትሮኒካዊ ኢነርጂ ሞዴል ለነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተት ምስረታ በ4H-Sic crystals።Iijima, A. እና Kimoto, T. በ 4H-SiC ክሪስታሎች ውስጥ የሾክሌይ ማሸግ ነጠላ ጉድለቶች ምስረታ ኤሌክትሮ-ኢነርጂ ሞዴል. ኢጂማ፣ ኤ. እና ኪሞቶ፣ ቲ. 4ኤች-ሲሲ 晶体中单Shockley 堆垛层错形成的电子能量模型。 ኢጂማ፣ ኤ እና ኪሞቶ፣ ቲ. የኤሌክትሮኒካዊ ኢነርጂ ሞዴል ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተት ምስረታ በ4H-SiC ክሪስታል ውስጥ።Iijima, A. እና Kimoto, T. ኤሌክትሮ-ኢነርጂ ሞዴል ነጠላ ጉድለት የሾክሌይ ማሸግ በ 4H-SiC ክሪስታሎች.ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ 126, 105703 (2019).
ኢጂማ፣ ኤ እና ኪሞቶ፣ ቲ. በ 4H-SiC PiN ዳዮዶች ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ጥፋቶችን ለማስፋፋት/ለመጨረስ ወሳኝ ሁኔታ ግምት። ኢጂማ፣ ኤ እና ኪሞቶ፣ ቲ. በ 4H-SiC PiN ዳዮዶች ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ጥፋቶችን ለማስፋፋት/ለመጨረስ ወሳኝ ሁኔታ ግምት።Iijima, A. እና Kimoto, T. ነጠላ የሾክሌይ ማሸጊያ ጉድለቶችን በ 4H-SiC PiN-diodes ውስጥ ለማስፋት/ለመጨመቅ ወሳኝ ሁኔታ ግምት. ኢጂማ፣ ኤ. እና ኪሞቶ፣ ቲ. 估计4H-SiC ፒን 二极管中单个 ሾክሌይ 堆垛层错膨胀/收缩的临界条件。 ኢጂማ፣ ኤ እና ኪሞቶ፣ ቲ. በ4H-SiC PiN ዳዮዶች ውስጥ የነጠላ የሾክሌይ መደራረብ የንብርብር መስፋፋት/መጨናነቅ ሁኔታ ግምት።Iijima, A. እና Kimoto, T. ነጠላ ጉድለት ማሸጊያ ሾክሌይ በ 4H-SiC PiN-diodes ውስጥ ለማስፋፋት/ለመጨመቅ ወሳኝ ሁኔታዎች ግምት.መተግበሪያ ፊዚክስ ራይት.116፣ 092105 (2020)።
ማንነን፣ ዋይ፣ ሺማዳ፣ ኬ.፣ አሳዳ፣ ኬ. እና ኦታኒ፣ ኤን. ኳንተም ጥሩ የድርጊት ሞዴል በ4H-SiC ክሪስታል ውስጥ ሚዛናዊ ባልሆኑ ሁኔታዎች ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተትን ለመፍጠር። ማንነን፣ ዋይ፣ ሺማዳ፣ ኬ.፣ አሳዳ፣ ኬ. እና ኦታኒ፣ ኤን. ኳንተም ጥሩ የድርጊት ሞዴል በ4H-SiC ክሪስታል ውስጥ ሚዛናዊ ባልሆኑ ሁኔታዎች ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተትን ለመፍጠር።ማንነን ዋይ፣ ሺማዳ ኬ፣ አሳዳ ኬ፣ እና ኦታኒ ኤን አንድ የኳንተም ጉድጓድ ሞዴል በ4H-SiC ክሪስታል ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተትን ለመፍጠር።ማንነን ዋይ፣ ሺማዳ ኬ፣ አሳዳ ኬ እና ኦታኒ ኤን. ኳንተም ጥሩ መስተጋብር ሞዴል በ4H-SiC ክሪስታሎች ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ ቁልል ስህተቶችን ለመፍጠር።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.125, 085705 (2019).
ጋሌካስ፣ ኤ.፣ ሊንሮስ፣ ጄ. እና ፒሮውዝ፣ ፒ. በድጋሚ የተፈጠሩ የመደራረብ ጥፋቶች፡ ለአጠቃላይ ዘዴ በሄክሳጎን ሲሲ። ጋሌካስ፣ ኤ.፣ ሊንሮስ፣ ጄ. እና ፒሮውዝ፣ ፒ. በድጋሚ የተፈጠሩ የመደራረብ ጥፋቶች፡ ለአጠቃላይ ዘዴ በሄክሳጎን ሲሲ።ጋሌካስ፣ ኤ.፣ ሊንኖስ፣ ጄ. እና ፒሮውዝ፣ ፒ. እንደገና በማዋሃድ የተፈጠረ የማሸግ ጉድለቶች፡ በሄክሳጎን ሲሲ ውስጥ ለጋራ ሜካኒዝም ማስረጃ። ጋሌካስ፣ ኤ.፣ ሊንሮስ፣ ጄ. እና ፒሩዝ፣ ፒ. 复合诱导的堆垛层错：六方SiC 中一般机制的证据。 ጋሌካስ፣ ኤ.፣ ሊንኖስ፣ ጄ. እና ፒሩዝ፣ ፒ. የአጠቃላይ የስብስብ ኢንዳክሽን መደራረብ ዘዴ ማስረጃ፡- 六方SiC.ጋሌካስ፣ ኤ.፣ ሊንኖስ፣ ጄ. እና ፒሮውዝ፣ ፒ. እንደገና በማዋሃድ የተፈጠረ የማሸግ ጉድለቶች፡ በሄክሳጎን ሲሲ ውስጥ ለጋራ ሜካኒዝም ማስረጃ።ፊዚክስ ፓስተር ራይት።96, 025502 (2006) እ.ኤ.አ.
ኢሺካዋ፣ Y.፣ Sudo፣ M.፣ Yao፣ Y.-Z.፣ Sugawara፣ Y. & Kato፣ M. ነጠላ የሾክሌይ መደራረብ ስህተት መስፋፋት በ4H-SiC (11 2 ¯0) ኤፒታክሲያል ንብርብር በኤሌክትሮን ጨረር ጨረር.ኢሺካዋ፣ Y.፣ M. Sudo፣ Y.-Z beam irradiation።ኢሺካዋ፣ ዋይ፣ ሱዶ ኤም.፣ Y.-Z ሳይኮሎጂ።ቦክስ፣ Ю.፣ ኤም.Судо, Y.-Z Chem., J. Chem., 123, 225101 (2018)
ካቶ፣ ኤም.፣ ካታሂራ፣ ኤስ.፣ ኢቺካዋ፣ ዋይ፣ ሃራዳ፣ ኤስ. እና ኪሞቶ፣ ቲ. በነጠላ ሾክሌይ መደራረብ ስህተቶች እና በ4H-SiC ውስጥ ከፊል የተፈናቀሉ የድምጸ ተያያዥ ሞደም መቀላቀልን መከታተል። ካቶ፣ ኤም.፣ ካታሂራ፣ ኤስ.፣ ኢቺካዋ፣ ዋይ፣ ሃራዳ፣ ኤስ. እና ኪሞቶ፣ ቲ. በነጠላ ሾክሌይ መደራረብ ስህተቶች እና በ4H-SiC ውስጥ ከፊል የተፈናቀሉ የድምጸ ተያያዥ ሞደም መቀላቀልን መከታተል።ካቶ ኤም.፣ ካታሂራ ኤስ.፣ ኢቲካዋ ዋይ፣ ሃራዳ ኤስ. እና ኪሞቶ ቲ. በነጠላ ሾክሌይ ማሸግ ጉድለቶች እና በ4H-SiC ውስጥ ከፊል መፈናቀሎች ውስጥ የአገልግሎት አቅራቢ ድጋሚ ውህደትን መመልከት። ካቶ፣ ኤም.፣ ካታሂራ፣ ኤስ.፣ ኢቺካዋ፣ ዋይ፣ ሃራዳ፣ ኤስ. እና ኪሞቶ፣ ቲ. 单Shockley 堆垛层错和4H-SiC ካቶ፣ ኤም.፣ ካታሂራ፣ ኤስ.፣ ኢቺካዋ፣ ዋይ፣ ሃራዳ፣ ኤስ. እና ኪሞቶ፣ ቲ. 单Shockley ቁልል ቁልል和4H-SiC ከፊል 位错中载流子去生的可以。ካቶ ኤም.፣ ካታሂራ ኤስ.፣ ኢቲካዋ ዋይ፣ ሃራዳ ኤስ. እና ኪሞቶ ቲ. በነጠላ ሾክሌይ ማሸግ ጉድለቶች እና በ4H-SiC ውስጥ ከፊል መፈናቀሎች ውስጥ የአገልግሎት አቅራቢ ድጋሚ ውህደትን መመልከት።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ 124, 095702 (2018).
ኪሞቶ፣ ቲ. እና ዋታናቤ፣ H. ጉድለት ምህንድስና በሲሲ ቴክኖሎጂ ለከፍተኛ-ቮልቴጅ ሃይል መሳሪያዎች። ኪሞቶ፣ ቲ. እና ዋታናቤ፣ H. ጉድለት ምህንድስና በሲሲ ቴክኖሎጂ ለከፍተኛ-ቮልቴጅ ሃይል መሳሪያዎች።ኪሞቶ, ቲ. እና ዋታናቤ, ኤች. በሲሲ ቴክኖሎጂ ውስጥ ለከፍተኛ-ቮልቴጅ መሳሪያዎች ጉድለቶች እድገት. ኪሞቶ፣ ቲ. እና ዋታናቤ፣ ኤች. 用于高压功率器件的SiC 技术中的缺陷工程。 ኪሞቶ፣ ቲ. እና ዋታናቤ፣ H. ጉድለት ምህንድስና በሲሲ ቴክኖሎጂ ለከፍተኛ-ቮልቴጅ ሃይል መሳሪያዎች።ኪሞቶ, ቲ. እና ዋታናቤ, ኤች. በሲሲ ቴክኖሎጂ ውስጥ ለከፍተኛ-ቮልቴጅ መሳሪያዎች ጉድለቶች እድገት.የመተግበሪያ ፊዚክስ ኤክስፕረስ 13, 120101 (2020).
ዣንግ፣ ዜድ እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ባሳል አይሮፕላን ከቦታ ቦታ ከመፈናቀል ነፃ የሆነ የሲሊኮን ካርቦይድ ኤፒታክሲ። ዣንግ፣ ዜድ እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ባሳል አይሮፕላን ከቦታ ቦታ ከመፈናቀል ነፃ የሆነ የሲሊኮን ካርቦይድ ኤፒታክሲ።ዣንግ ዜድ እና ሱዳርሻን ቲኤስ ከቦታ ቦታ ነፃ የሆነ የሲሊኮን ካርቦይድ ኤፒታክሲ በመሠረታዊ አውሮፕላን ውስጥ። Zhang፣ Z. & Sudarshan፣ TS 碳化硅基面无位错外延。 ዣንግ፣ ዜድ እና ሱዳርሻን፣ ቲ.ኤስዣንግ ዜድ እና ሱዳርሻን ቲኤስ ከቦታ ቦታ ከመጥፋት ነፃ የሆነ የሲሊኮን ካርቦይድ ባሳል አውሮፕላኖች።መግለጫ.ፊዚክስ.ራይት87, 151913 (2005).
ዣንግ፣ ዜድ፣ ሞልተን፣ ኢ እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ባሳል አውሮፕላን በሲሲሲ ስስ ፊልሞች ላይ በተቀረጸ ንኡስ ንጣፍ ላይ በኤፒታክሲ የማስወገድ ዘዴ። ዣንግ፣ ዜድ፣ ሞልተን፣ ኢ እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ባሳል አውሮፕላን በሲሲሲ ስስ ፊልሞች ላይ በተቀረጸ ንኡስ ንጣፍ ላይ በኤፒታክሲ የማስወገድ ዘዴ።ዣንግ ዜድ፣ ሞልተን ኢ እና ሱዳርሻን ቲኤስ በሲሲ ስስ ፊልሞች ላይ የመሠረት አውሮፕላን መፈናቀልን የማስወገድ ዘዴ በተቀረጸ ንጣፍ ላይ በኤፒታክሲ። ዣንግ፣ ዜድ፣ ሞልተን፣ ኢ. እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ Zhang, Z., Moulton, E. & Sudarshan, TS የ SiC ቀጭን ፊልም ንጣፉን በመቅረጽ የማስወገድ ዘዴ.ዣንግ ዜድ፣ ሞልተን ኢ እና ሱዳርሻን ቲኤስ በሲሲ ስስ ፊልሞች ላይ የመሠረት አውሮፕላን መፈናቀልን የማስወገድ ዘዴ በተቀረጹ ንጣፎች ላይ።መተግበሪያ ፊዚክስ ራይት.89, 081910 (2006).
Shtalbush RE እና ሌሎች.የዕድገት መቆራረጥ በ 4H-SiC epitaxy ወቅት የመሠረታዊ አውሮፕላኖች መፈናቀል እንዲቀንስ ያደርጋል።መግለጫ.ፊዚክስ.ራይት94, 041916 (2009) እ.ኤ.አ.
Zhang, X. & Tsuchida, H. የባሳል አውሮፕላን መፈናቀሎችን በከፍተኛ የሙቀት መጠን በማጣራት በ 4H-SiC epilayers ውስጥ የጠርዝ መሰናክሎችን ወደ ክር ቀይር። Zhang, X. & Tsuchida, H. የባሳል አውሮፕላን መፈናቀሎችን በከፍተኛ የሙቀት መጠን በማጣራት በ 4H-SiC epilayers ውስጥ የጠርዝ መሰናክሎችን ወደ ክር ቀይር።Zhang, X. እና Tsuchida, H. የ basal አውሮፕላን ማፈናቀልን ወደ ክር ጠርዝ ማዛመጃዎች በ 4H-SiC epitaxial layers ውስጥ በከፍተኛ የሙቀት መጠን በማጣራት መለወጥ. Zhang፣ X. & Tsuchida፣ H. 通过高温退火将4H-SiC 外延层中的基面位错转化为螺纹刃位错。 ዣንግ፣ X. እና Tsuchida፣ H. 通过高温退火将4H-SiCZhang, X. እና Tsuchida, H. የመሠረት አውሮፕላኖችን ማፈናቀል ወደ ክር ጠርዝ ማዛመጃዎች በ 4H-SiC epitaxial layers ውስጥ በከፍተኛ ሙቀት መጨመር.ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.111, 123512 (2012).
መዝሙር፣ ኤች እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ባሳል አውሮፕላን የመቀየሪያ ቅየራ ከኤፒላይየር/ substrate በይነገጽ አጠገብ በ 4° ዘንግ ላይ 4H–SiC ኤፒታክሲያል እድገት። መዝሙር፣ ኤች እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ባሳል አውሮፕላን የመቀየሪያ ቅየራ ከኤፒላይየር/ substrate በይነገጽ አጠገብ በ 4° ዘንግ ላይ 4H–SiC ኤፒታክሲያል እድገት።መዝሙር፣ ኤች. እና ሱዳርሻን፣ ቲኤስ ከኤፒታክሲያል ንብርብር/ substrate በይነገጽ አጠገብ የመሠረታዊ አውሮፕላን መፈናቀል ለውጥ በ4H–SiC ከዘንግ ውጪ ኤፒታክሲያል እድገት። ዘፈን፣ ኤች እና ሱዳርሻን፣ TS 在4° 离轴4H-SiC 外延生长中外延层/衬底界面附近的基底平面位错转换。 ዘፈን፣ H. & Sudarshan፣ TS 在4° 离轴4H-SiC ዘፈን፣ ኤች. እና ሱዳርሻን፣ ቲ.ኤስከ 4 ዲግሪ ዘንግ ውጭ በ 4H-SiC ኤፒታክሲያል እድገት ወቅት በኤፒታክሲያል ንብርብር / substrate ወሰን አቅራቢያ ያለው የንድፍ ንጣፍ ሽግግር።ጄ ክሪስታል.ዕድገት 371፣ 94–101 (2013)።
ኮኒሺ, K. et al.በከፍተኛ ጅረት፣ በ 4H-SiC epitaxial layers ውስጥ ያለው የባሳል አውሮፕላን መፈናቀል መደራረብ ጥፋት ወደ ክር ጠርዝ መበታተን ይቀየራል።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.114, 014504 (2013) እ.ኤ.አ.
ኮኒሺ, K. et al.በኤክስ ሬይ መልክዓ ምድራዊ ትንተና ውስጥ የተራዘሙ የተደራረቡ ጥፋቶችን ኒውክሌሽን ቦታዎችን በመለየት ባይፖላር የማይበላሹ የሲሲ MOSFET ኤፒታክሲያል ንብርብሮችን ይንደፉ።AIP የላቀ 12, 035310 (2022).
ሊን, ኤስ እና ሌሎች.የ4H-SiC ፒን ዳዮዶች ወደፊት በሚበሰብስበት ወቅት የአንድ የሾክሌይ አይነት መደራረብ ስህተትን በማሰራጨት ላይ ያለው የባሳል አውሮፕላን የመሰናከል መዋቅር ተጽእኖ።ጃፓን.ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.57፣ 04FR07 (2018)።
ታሃራ፣ ቲ.፣ እና ሌሎች።በናይትሮጅን የበለጸጉ 4H-SiC epilayers ውስጥ ያለው አጭር አናሳ ተሸካሚ የህይወት ዘመን በፒን ዳዮዶች ውስጥ የተደራረቡ ስህተቶችን ለማፈን ይጠቅማል።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ.120, 115101 (2016).
ታሃራ, ቲ. እና ሌሎች.በ4H-SiC PiN ዳዮዶች ውስጥ ነጠላ የሾክሌይ መደራረብ ስህተት መስፋፋት የተከተተ የአገልግሎት አቅራቢ ትኩረት ጥገኝነት።ጄ ማመልከቻ.ፊዚክስ 123, 025707 (2018).
Mae, S., Tawara, T., Tsuchida, H. & Kato, M. በአጉሊ መነጽር ኤፍሲኤ ስርዓት በጥልቅ-የተፈታ የአገልግሎት አቅራቢ የህይወት ዘመን መለኪያ በሲሲ. Mae, S., Tawara, T., Tsuchida, H. & Kato, M. በአጉሊ መነጽር ኤፍሲኤ ስርዓት በጥልቅ-የተፈታ የአገልግሎት አቅራቢ የህይወት ዘመን መለኪያ በሲሲ.Mei, S., Tawara, T., Tsuchida, H. እና Kato, M. FCA በአጉሊ መነጽር ስርዓት ለጥልቅ-የተፈታ ተሸካሚ የህይወት ጊዜ መለኪያዎች በሲሊኮን ካርቦይድ ውስጥ. ማኢ፣ ኤስ.፣ ታዋራ፣ ቲ.፣ ቱቺዳ፣ ኤች. እና ካቶ፣ ኤም. Mae, S., Tawara, T., Tsuchida, H. & Kato, M. ለ SiC መካከለኛ ጥልቀት 分辨载流子የእድሜ ልክ መለኪያ的月微FCA ስርዓት።Mei S., Tawara T., Tsuchida H. እና Kato M. Micro-FCA ስርዓት በሲሊኮን ካርቦይድ ውስጥ በጥልቅ-የተፈቱ የአገልግሎት አቅራቢዎች የህይወት ዘመን መለኪያዎች.አልማ ማተር ሳይንስ ፎረም 924, 269-272 (2018).
ሂራያማ, ቲ. እና ሌሎች.በ4H-SiC epitaxial ንብርብሮች ውስጥ ያለው የአገልግሎት አቅራቢው የህይወት ዘመን ጥልቀት የሚለካው አጥፊ ባልሆነ መንገድ ነፃ የአገልግሎት አቅራቢዎችን የመምጠጥ እና የተሻገረ ብርሃንን በመጠቀም ነው።ወደ ሳይንስ ቀይር።ሜትር.91, 123902 (2020)
የልጥፍ ሰዓት፡- ህዳር-06-2022